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发布者：深圳市瑞泓科技有限公司2022-7-5

pvd真空电镀工艺对环境的要求：1、高真空设备。使用饱和蒸气压低的扩散泵油和硅油作为润滑剂；窗户的密封件应涂上高真空油脂；相对湿度不高于清洁空气循环环境的70%。2、真空电镀设备一般应在温度下工作1530℃。冷却水进水温度不高于25℃。电真空结构数据除了具有-的机械性能外，还应该能满足其他性能的要求。

真空镀膜的种类：在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空电镀有什么特点：适用范围广泛，可用于许多不同材料的物体，在工件真空镀膜条件下涂一层薄膜，可用于：钢、锌合金材料等。

真空电镀和化学电镀的区别在于哪里？真空电镀的主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型，它们都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的-优点。到目前为止，很多重金属可以通过化学镀铜的方法从水溶液中沉积出来。从经济角度来看，化学镀铜成本低，因此被广泛采用。

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